Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration

Gegenstand der Beschaffung ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Hierzu sind insbesondere Anpassungen am Gasverteilungssystem zur Realisierung eines gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozesses sowie die Integration zusätzlicher Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken bis 300 Torr erforderlich. Die Leistungen umfassen die Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der erforderlichen Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem.