Instrumente zum Messen von Durchfluss, Füllhöhe und Druck von Flüssigkeiten und Gasen

NMR-Spektrometerkonsole

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt den Kauf eines EBSD-Detektors für die Nutzung an einem aufgearbeiteten Zeiss LEO 1530. Bedingung ist eine softwareseitige Kompatibilität des am REM vorhandenen Bruker EDX-Detektors „XFlash 730 M“ mit dem neuen EBSD-Detektor, wodurch eine simultane Aufnahme und Auswertung der EDX- und EBSD-Ergebnisse in einer Software ermöglicht wird. Der EBSD-Detektor soll mit einem Standard-Detektorkopf und einem wechselbaren Detektorkopf für On-Axis TKD (Transmission Kikuchi Diffraction) ausgestattet werden können. Ziel ist die Untersuchung von verschiedenen Materialien und Transmissionsproben. Der EBSD Detektor inkl. Software soll folgenden Bedingungen erfüllen, siehe Mindestanforderungen (Anlage 2). Hinweis: Eine Vorauszahlung gegen Bankbürgschaft in Höhe des Bruttoauftragswertes wird in Absprache vereinbart. Der Auftragnehmer reicht dazu umgehend nach Zuschlagserteilung eine Rechnung und Bürgschaft ein. Die Kosten sind einzukalkulieren und werden nicht vergütet. Anforderung: Bankbürgschaft eines europäischen Kreditinstituts / Bank, zudem selbstschuldnerisch und unbefristet, Zinsen und Kosten ein-geschlossen, unter Verzicht auf die Einreden der Anfechtbarkeit, der Aufrechenbarkeit und der Vorausklage gemäß § 770, 771 BGB. Die Bürgschaft kann nach erfolgreicher Abnahme zurückgefordert werden. Eine Befristung ist unzulässig.

1 pc. 2D Röntgen-Inspektions System

Allgemeine Beschreibung Für die Ausstattung des neuen Reinraums wird ein spezifischer Maschinenpark zur Herstellung, Bearbeitung und Integration von Mikro und Nanosystemen und verwandten Quantentechnologien beschafft. Im Rahmen dieser Ausschreibung werden Anlagen für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum be-schafft. Geplant ist eine reaktive Ionenätzanlage (RIE) mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP) zum Ätzen von Siliziumsubstraten oder -schichten. Die Ausschreibung umfasst lediglich die spezifizierte Anlage, die dafür benö-tigten Medien und Peripherien werden vom DLR separat bereitgestellt. DRIE-Anlage / Beschreibung Zum Ätzen tiefer Strukturen in Silizium wird eine Anlage zum reaktiven Ionentiefenätzen (deep reactive ion et-ching DRIE) benötigt. Mit diesem Verfahren sollen Strukturen mit hohem Aspektverhältnis in Si Substrate oder Si Schichten auf 100 mm und 150 mm Wafern mittels Lack- und Hartmasken geätzt werden. Auftragsgegenstand • Anlage gemäß Spezifikation inkl. Lieferung, Inbetriebnahme, Abnahme und Schulung • Es können neue, sowie neuwertige gebrauchte (refurbished) Systeme angeboten werden. Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu entnehmen.

Wir benötigen ein Vakuumimprägniergerät, das zur Kalteinbettung von metallografischen Proben mit Epoxidharzsystemen eingesetzt wird. Es muss die Imprägnierung poröser Proben, Proben mit Rissen sowie elektronischer Bauteile ermöglichen und eine Vakuumerzeugung durch Pumpe mit einem Enddruck von mindestens 100 mbar absolut gewährleisten. Das Gerät soll über eine große Vakuumkammer mit transparentem Deckel verfügen und die Einstellung von Vakuumzeit und Zyklusdauer erlauben, um reproduzierbare Ergebnisse sicherzustellen.