Das im Folgenden beschriebene Nah-Umgebungsdruck Röntgenphotoelektronen-Spektrometer (Near-Ambient-Pressure X-ray photoelectron spectrometer, NAP-XPS) soll die Analyse von Katalysatorproben (u.a. Pulverkatalysatoren, Modellkatalysatoren auf definierten Kristalloberflächen) bei Drücken nahe dem Umgebungsdruck ermöglichen. Im Vergleich zu Standard-XPS-Systemen, bei denen ein Ultrahochvakuum (UHV) für die Messung nötig ist, sollen zusätzlich Untersuchungen bei Systemdrücken im mbar-Bereich von 30mbar oder höher, für Gasgemische bestehend aus u.a. H2, CO, CO2, CH4, O2 und/oder CH3OH, durchgeführt werden. Ziel ist eine in-situ Messung der Probenoberfläche und der auf dieser gebundenen Moleküle unter Reaktionsbedingungen bei katalytischen Prozessen, was sowohl eine Probenheizung bis zu 800 Grad und die Möglichkeit des Einlasses von Gasgemischen in die Messkammer nötig macht. Eine Messung der Reaktionsprodukte in der Gasphase soll zudem realisiert werden.
Das System soll zusätzlich über eine LEED-Apparatur (Low-Energy Electron Diffraction) zur Messung der Kristallstruktur der Probenoberfläche und eine Präparationskammer u.a. zur Probenpräparation und Probenreinigung verfügen.
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