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Molekularstrahlepitaxieanlage mit Möglichkeit der optischen Interferenzlithografie

Auftraggeber
Veröffentlicht
14.07.2026
Angebotsfrist
22.07.2026
Molekularstrahlepitaxieanlage mit Möglichkeit der optischen Interferenzlithografie

Zeitplan

Fragenfrist
08.07.26
Veröffentlichung
14.07.26
Abgabefrist
22.07.26
Öffnung
22.07.26

Ausschreibung

Reichweite
EU-weit
Vergabeart
Offenes Verfahren
Geschätzter Wert
1.200.000 €
Erfüllungsort
Bochum, Deutschland
Vertragslaufzeit
30 Tage
E-Mail
beschaffung@rub.de
Telefon
+49 23432-0

Eignungs- & Bewertungskriterien

Eignungskriterien

  • Zur technischen Leistungsfähigkeit des Bieters sind von diesem folgende Angaben zu machen: a) detaillierte Darstellung des Unternehmens und der Kompetenzschwerpunkte Hinweis: Die vorstehenden Angaben a) sind durch Eigenerklärungen zu erbringen. Für die Abgabe der Eigenerklärungen ist zwingend das vom Auftraggeber zur Verfügung gestellte Dokument 02 - Angebotsvordruck zu verwenden. Bei Bietergemeinschaften sind diese Angaben für alle Mitglieder der Bietergemeinschaft vorzulegen. Sofern ein Bewerber zum Nachweis seiner Eignung sich auf andere Unternehmen, insbesondere Subunternehmer beruft, sind entsprechende Angaben auch für diese vorzulegen. Bieter haben im Angebotsvordruck folgende Nachweise in Form von Eigenerklärungen zu erbringen: - Angabe von mindestens 3 Referenzen zu vergleichbaren Aufträgen

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