Plasma ALD-System

Zur Bearbeitung eines Forschungsprojektes benötigt die AMO ein Plasma ALD -System zur Deposition von homogenen dielektrischen Al2O3-Schichten auf einem definierten Schichtsystem (Monolage hBN/Graphen). Die Einkapselung durch die Al2O3-Schicht muss derart erfolgen, dass die Schädigung des darunterliegenden Schichtsystems durch die Einwirkung des Plasmas so gering wie möglich ist.