System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) - PR1153448-2480-P

Eignungskriterien

• • •Referenzen / References
  • •Referenz von mindestens 3 vergleichbaren Projekten (Kurzbeschreibung Gerät, Kundennennung), nicht älter als drei Jahre

• Darstellung der Firma

  • •Mindestangaben:
  • •- Gründungsjahr
  • •- wichtige Meilensteine des Unternehmens
  • •- Anzahl der Mitarbeiter
  • •- was wird hergestellt/welche Leistungen werden erbracht
  • •--> Alle Angaben bitte in Textform, KEINE Links oder Bilder.
• • •1. Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 GWB
  • •2. Eigenerklärung-Selfdeclaration - (EU) Nr. 833/2014

• Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre - Dieses Kriterium ist NICHT das einzige Eignungskriterium. Die vollständigen Eignungskriterien finden Sie hier

  https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-19dd324472b-6ce21f095f09894c

Zuschlagskriterien

• Technische Ausführung

• Verbindliche Lieferzeit

• Preis