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System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) - PR1153448-2480-P

Auftraggeber
Veröffentlicht
11.06.2026
Angebotsfrist
System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1)
Vergabeunterlagen

Zeitplan

Veröffentlichung
11.06.26
Teilnahmefrist
15.07.26

Ausschreibung

Reichweite
EU-weit
Vergabeart
neg-w-call
Erfüllungsort
München, Deutschland
Vertragslaufzeit
23 Tage
E-Mail
einkauf@zv.fraunhofer.de
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Telefon
+49891205-0
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Website
https://vergabe.fraunhofer.de/
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Eignungs- & Bewertungskriterien

Eignungskriterien

    • Referenzen / References
    • Referenz von mindestens 3 vergleichbaren Projekten (Kurzbeschreibung Gerät, Kundennennung), nicht älter als drei Jahre
  • Darstellung der Firma

    • Mindestangaben:
    • - Gründungsjahr
    • - wichtige Meilensteine des Unternehmens
    • - Anzahl der Mitarbeiter
    • - was wird hergestellt/welche Leistungen werden erbracht
    • --> Alle Angaben bitte in Textform, KEINE Links oder Bilder.
    • 1. Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 GWB
    • 2. Eigenerklärung-Selfdeclaration - (EU) Nr. 833/2014
  • Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre

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