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Metrology SEM+FIB system

The main purpose of this FIB/SEM equipment is to perform material milling (cutting), 3D characterization, and cross section analysis of epitaxially grown InP, InGaAs, InAlGaAs and InGaAsP layers on InP substrates. The structures may also contain polymer-based planarization layers, SiOx or SiNx dielectric layers and TiPtAu or NiGeAu metal layers. Levering van één SEM +FIB systeem

Zeitplan

Veröffentlichung
28.07.26
Fragenfrist
17.08.26
Abgabefrist
07.09.26
Öffnung
07.09.26

Ausschreibung

Reichweite
EU-weit
Vergabeart
Offenes Verfahren
Geschätzter Wert
1.300.000 €
Erfüllungsort
Den Haag, Deutschland
Vertragslaufzeit
48 Tage
E-Mail
arjan.verhoeven@tno.nl
Telefon
+31 888665653
Website
http://www.tno.nl

Eignungs- & Bewertungskriterien

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    • Naar het oordeel van TNO is het hanteren van het gunningscriterium laagste prijs binnen deze aanbestedingsprocedure dan ook juridisch verdedigbaar en in overeenstemming met de beginselen van proportionaliteit, zorgvuldigheid en transp

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